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　　電子束蒸發(fā)源是利用熱陰極發(fā)射電子在電場作用下成為高能量密度的電子束直接轟擊到鍍料上。動能轉(zhuǎn)化為熱能，使鍍料加熱汽化，完成蒸發(fā)鍍膜。

　　電子束蒸發(fā)鍍膜機的優(yōu)點：

　　1、電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密度，可以蒸發(fā)高熔點材料，如W、Mo、Al2O3等，并可得到較高的蒸發(fā)速率;

　　2、被蒸發(fā)材料置于水冷銅坩堝內(nèi)，真空蒸發(fā)鍍膜機可避免坩堝材料污染，可制備高純薄膜;

　　3、電子束蒸發(fā)粒子動能大，有利于獲得致密、結(jié)合力好的膜層。

　　電子束蒸發(fā)鍍膜機的缺點：

　　1、結(jié)構(gòu)較復雜，設(shè)備價格較貴;

　　2、若蒸發(fā)源附近的蒸氣密度高，電子束流和蒸氣粒子之間會發(fā)生相互作用，電子的通量將散失和軌道偏移;同時引起蒸氣和殘余氣體的激發(fā)和電離，會影響膜層質(zhì)量。

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